Nel funzionamento del sistema di refrigerazione per il controllo della temperatura dei wafer di semiconduttori, viene utilizzato un passaggio di stato di un determinato fluido di lavoro e il calore necessario Q0 viene estratto dalla fonte di calore di una temperatura inferiore, mentre il calore Qk viene inviato alla fonte di calore tropicale attraverso un processo di accumulo della potenza di consumo W. In questo processo, Qk = Q0 + W è tratto dalla conservazione dell'energia.

Per ottenere il controllo della migrazione della temperatura dei wafer di semiconduttori, viene eseguito un processo di abbassamento forzato della temperatura del refrigerante in un ambiente a temperatura più bassa e il calore viene continuamente estratto dall'oggetto da raffreddare, il tutto entro i limiti della tecnica di refrigerazione. Il processo prevede diverse fasi fondamentali: refrigerazione a cambiamento di fase: l'uso dell'evaporazione di liquidi a basse temperature o la dissoluzione o sublimazione di solidi a basse temperature per estrarre calore dall'oggetto da raffreddare. I normali condizionatori d'aria sono tutte fasi di raffreddamento di questo tipo. Refrigerazione a espansione di gas: Il gas ad alta pressione può raggiungere una temperatura inferiore dopo l'espansione adiabatica, in modo che il gas a bassa pressione possa essere riscaldato per essere raffreddato. Refrigerazione a correnti parassite: Dopo che il gas ad alta pressione è stato espanso dal tubo a vortice, può essere sottoposto a un flusso di aria calda e fredda e può essere raffreddato dal processo di riscaldamento del flusso di aria fredda. Raffreddamento termoelettrico: La corrente continua passa attraverso la termopila a semiconduttore, che può avere un effetto freddo a un'estremità e un effetto termico all'altra estremità.

La temperatura del wafer di semiconduttore è controllata durante il funzionamento. Ad alta temperatura, il mezzo di trasferimento del calore non evapora e può essere realizzato senza pressione. Da -80 a 190 gradi, da -70 a 220 gradi, da -88 a 170 gradi, da -55 a 250 gradi. Grado, -30 ~ 300 gradi controllo continuo della temperatura. Il principio e la funzione del controllo della temperatura dei wafer a semiconduttore presentano numerosi vantaggi per l'utente: Poiché solo il mezzo di trasferimento del calore nella camera di espansione è in contatto con l'ossigeno dell'aria (e la temperatura del serbatoio di espansione è compresa tra la temperatura normale e 60 gradi), è possibile ottenere la riduzione. Il mezzo di trasferimento del calore viene ossidato e assorbe l'umidità dell'aria.

Nel controllo della temperatura dei wafer a semiconduttore, il principio della refrigerazione è quello illustrato sopra. Quando l'utente controlla la temperatura del wafer a semiconduttore, deve prestare attenzione al principio della refrigerazione e, dopo averlo compreso, deve operare meglio il controllo della temperatura del wafer a semiconduttore.