半導体拡散炉構成温度制御装置

2024-04-10 2120

半導体産業において、拡散炉は半導体材料の表面にドーピング層を製造するために使用される装置である。高温加熱と制御された拡散雰囲気によってドーピングプロセスを実現する。

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ウエハテスト温度制御システム使用上の注意事項

2024-03-19 1794

ウエハテスト温度制御システム使用上の注意事項

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ウェハ薄膜成膜温度制御装置チラー使用環境

2024-03-19 2042

ウェハ薄膜成膜冷却チラーの使用環境

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電源管理チップ温度試験システムを購入するには？

2024-03-19 2268

電源管理チップ温度試験システムは、さまざまな温度環境で半導体チップの性能と信頼性を試験するために使用される重要な装置です。この種の試験装置を購入する際には、以下の点を考慮する必要がある：

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LTS -20℃~80

2023-05-17 2501

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer medium. 1. The pressure ...

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LTS -40℃~80

2023-05-17 2646

INQUIRY Product data download manual.pdf Parameters Detailed Model LTS-402 LTS-403 LTS-404 LTS-406 LTS-408 LTS-402W LTS-403W LTS-404W LTS-406W LTS-408W Temperature range -40℃～35℃ Temperature control accuracy ±0.1℃ -40℃～-10℃ Flow control 7～2...

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LTS -60℃~80

2023-05-17 2477

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer medium. 1. The pressure ...

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LTS -80℃~80

2023-05-17 2434

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer medium. 1. The pressure ...

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