Поиск по всей станции
Принцип работы охладителей, используемых в процессах химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD) полупроводников, заключается в основном в отводе тепла, выделяемого в ходе процесса, путем циркуляции охлаждающей воды или специальных охлаждающих...
Посмотреть деталиIon implantation is an important step in semiconductor manufacturing processes to precisely dope and control the electrical properties of semiconductor materials by implanting high-energy ions into them. This process generates a lot of heat, so ch...
Посмотреть деталиТочность контроля температуры: Процесс производства полупроводников предъявляет чрезвычайно строгие требования к контролю температуры. Нагревательный циркулятор может обеспечить точный контроль температуры, гарантируя, что температура остается...
Посмотреть деталиIn the semiconductor packaging testing process, especially in the temperature control process of the sorting machine (test probe station), the use of chillers is mainly based on the following reasons: Temperature stability and accuracy: The perfor...
Посмотреть деталиХимическое осаждение из паровой фазы (CVD): В процессе CVD многоканальный охладитель используется для охлаждения стенок реакционной камеры, теплообменников и теплообменников предварительного нагрева газа для поддержания стабильной температуры в реакционной камере, обеспечивая точный контроль...
Посмотреть деталиThe chip lead bonding process indeed requires precise temperature control, so temperature control systems are usually equipped to ensure process stability and yield. The following are the importance and application scenarios of temperature control...
Посмотреть детали
INQUIRY FLTZ -100℃～+90℃ Low Temperature Cascade Refrigeration Series Model FLTZ-002 FLTZ-003 FLTZ-004 FLTZ-006 FLTZ-008 FLTZ-010 FLTZ-015 FLTZ-002W FLTZ-003W FLTZ-004W FLTZ-006W FLTZ-008W FLTZ-010W FLTZ-015W Temperature range 5℃～90℃ Temperature ...
Посмотреть детали
Model FLTZ-305W FLTZ-305W/2T Double System Temp Range -30℃~40℃ -30℃~40℃ -30℃~40℃ Temp control accuracy ±0.1℃ ±0.1℃ ±0.1℃ Flow Control 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 Pump Pressure 6bar max 6bar max 6bar max Heati...
Посмотреть детали
Heating method within 40 ℃ adopts a compressor hot gas heating fully enclosed design, and the machine operates continuously for 24 hours Mainly used for precise temperature control in semiconductor production and testing processes, heating within ...
Посмотреть детали
Temp Range: +5℃~90℃ ±0.3℃ Cooling Capacity: 5kw~30kw Tank volume: 6L~15L Power: 06KW~1.6KW Heating method within 40 ℃ adopts a compressor hot gas heating fully enclosed design, and the machine operates continuously for 24 hours The sem...
Посмотреть детали
工業冷水機製造商 LNEYA Taiwan
