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The working principle of the chillers used in semiconductor chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes is mainly to remove the heat generated during the process by circulating cooling water or special coolants to...
Details anzeigenIon implantation is an important step in semiconductor manufacturing processes to precisely dope and control the electrical properties of semiconductor materials by implanting high-energy ions into them. This process generates a lot of heat, so ch...
Details anzeigenTemperature Control Accuracy: The semiconductor manufacturing process has extremely strict requirements for temperature control. The heating circulator can provide precise temperature control, ensuring that the temperature remains within a very sm...
Details anzeigenBei der Prüfung von Halbleitergehäusen, insbesondere bei der Temperierung der Sortiermaschine (Prüfkopfstation), werden hauptsächlich aus folgenden Gründen Kühlgeräte eingesetzt: Temperaturstabilität und -genauigkeit...
Details anzeigenChemische Gasphasenabscheidung (CVD): Beim CVD-Verfahren wird ein Mehrkanal-Kühler zur Kühlung der Wände der Reaktionskammer, der Wärmetauscher und der Gasvorwärmetauscher eingesetzt, um die Temperatur der Reaktionskammer stabil zu halten und eine präzise Steuerung zu gewährleisten...
Details anzeigenDer Chip Lead Bonding-Prozess erfordert in der Tat eine präzise Temperaturkontrolle. Daher sind Temperaturkontrollsysteme in der Regel so ausgestattet, dass sie Prozessstabilität und Ausbeute gewährleisten. Im Folgenden werden die Bedeutung und die Anwendungsszenarien der Temperaturkon...
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INQUIRY FLTZ -100℃～+90℃ Low Temperature Cascade Refrigeration Series Model FLTZ-002 FLTZ-003 FLTZ-004 FLTZ-006 FLTZ-008 FLTZ-010 FLTZ-015 FLTZ-002W FLTZ-003W FLTZ-004W FLTZ-006W FLTZ-008W FLTZ-010W FLTZ-015W Temperature range 5℃～90℃ Temperature ...
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Model FLTZ-305W FLTZ-305W/2T Double System Temp Range -30℃~40℃ -30℃~40℃ -30℃~40℃ Temp control accuracy ±0.1℃ ±0.1℃ ±0.1℃ Flow Control 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 15～45L/min ±0.3 Pump Pressure 6bar max 6bar max 6bar max Heati...
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Heating method within 40 ℃ adopts a compressor hot gas heating fully enclosed design, and the machine operates continuously for 24 hours Mainly used for precise temperature control in semiconductor production and testing processes, heating within ...
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Temp Range: +5℃~90℃ ±0.3℃ Cooling Capacity: 5kw~30kw Tank volume: 6L~15L Power: 06KW~1.6KW Heating method within 40 ℃ adopts a compressor hot gas heating fully enclosed design, and the machine operates continuously for 24 hours The sem...
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工業冷水機製造商 LNEYA Taiwan
