半導體 溫度控制用冷水機

半導體冷水機概述

半導體產業對溫度控制精度要求極高。許多製造和測試步驟對即使是微小的溫度變化都極為敏感。產品性能和良率取決於穩定、高精度的冷卻系統。 LNEYA
 
是半導體應用領域先進半導體冷水機的領先製造商。自 2010 年以來，我們一直為晶圓加工、封裝和測試生產線提供可靠的溫度控制設備。我們的產品系列包括標準型和客製化型冷水機，旨在實現精確、可重複的性能。
 
對於特殊工藝，我們可以根據您的溫度範圍、容量和控制介面要求，量身定製冷卻解決方案。
 
請聯絡我們的工程團隊索取產品目錄或取得半導體冷卻系統的報價。

LNEYA®半導體冷水機特性

• 高效、生產穩定、結果可重複。
• 採用板式熱交換器和管式加熱器來提高冷卻和加熱速度。
• 溫度範圍極寬（-150℃至+350℃），無需更換液體介質。
• 全封閉系統，延長導熱油的使用壽命。
• 採用磁力驅動泵，不存在軸封洩漏問題。
• 高溫冷卻技術，300℃直啟動壓縮機冷卻。

半導體冷水機應用

半導體製造需要穩定且精確的冷卻系統。可靠的半導體冷卻器有助於在晶圓加工、蝕刻和測試過程中控制溫度。 LNEYA 致力於設計具有高精度溫度、寬工作範圍和長期穩定性的半導體冷卻器。

半導體製造需要極為穩定的環境條件。即使是微小的溫度漂移也會影響產品良率和裝置可靠性。半導體冷卻器可在晶圓封裝、測試和製造等關鍵製程步驟中提供精確的溫度控制。

這些冷卻器廣泛應用於半導體晶圓廠和計量系統的製程冷卻。它們有助於穩定 CMOS 和 CCD 感測器，維持 AOI 檢測系統的溫度，並在等離子蝕刻或薄膜沉積過程中為腔室壁提供獨立冷卻。

在諸如金屬鎢的熱原子層蝕刻等應用中，穩定的冷卻可確保結果的可重複性和更長的設備壽命。