Search the whole station

半導體製造廠製程溫度控制

LNEYA在半導體產業產品的溫度控制領域擁有豐富的經驗，其產品涵蓋光刻、蝕刻、薄膜沉積、拋光等各種製程溫度控制。
產品包括：高精度冷水加熱器、低溫冷水機、無壓縮機熱交換器等，溫度控制精度高達±0.05℃。

解決方案

半導體製造廠製程溫度控制（images 1）

半導體製造是一個對環境要求極高的過程，許多製程步驟對溫度非常敏感。
例如，在光刻製程中，光刻機的光學系統需要在穩定的溫度環境下工作，因為溫度的微小變化都可能導致光路偏差，進而影響光刻精度。在化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）等製程中，反應溫度直接影響薄膜的品質和性能。精確的溫度控制可確保沉積薄膜具有均勻的厚度和精確的成分，從而提高晶片的性能和良率。

高精度半導體冷卻器FLTZ系列

熱電帕爾帖冷卻器TEC系列

ETCU 熱交換冷卻器ETCU系列

精密空調LMW系列

半導體製造廠製程溫度控制（images 2）

FLTZ可變頻率 冷卻器

—溫度控制精度±0.05℃（出口溫度穩定狀態）

工作溫度範圍為-90℃至+100℃，主要用於半導體生產和測試過程中精確的溫度控制。該系統採用多種演算法，實現了快速的系統響應和高控制精度。

半導體製造廠製程溫度控制（images 3）

雙通道冷水機

—多流體通道的精確溫度控制

FLTZ系列雙通道冷水機主要用於半導體製造製程反應室溫度的精確控制。本系統採用多種演算法（PID、前饋PID、無模型自建樹演算法），顯著提升了系統的反應速度、控制精度和穩定性。

半導體製造廠製程溫度控制（images 4）

三通道冷水機

—三通道冷水機組獨立智慧控制

FLTZ系列三通道冷水機組主要用於半導體生產和測試過程中的精確溫度控制。該系統支援三個通道的獨立溫度控制，每個通道具有獨立的溫度範圍、冷卻和製熱能力以及熱介質流量。

半導體製造廠製程溫度控制（images 5）

熱電珀爾帖冷卻器

—溫度精度 ±0.1℃

靜電吸盤（ESC）的動態溫度控制使其能夠應用於所有類型的蝕刻製程。

快速、精確的溫度控制滿足最嚴苛的製程要求。

半導體製造廠製程溫度控制（images 6）

冷水機熱交換系列

—未使用壓縮機

本系統採用ETCU無壓縮機熱交換系統，可作為通用膨脹水箱、冷凝器、冷卻水系統等，有效縮小設備尺寸，減少操作步驟。

半導體製造廠製程溫度控制（images 7）

精密空調

—恆溫恆溫單元

半導體、液晶顯示器和太陽能板製造工廠的設備、生產流程、檢測流程和空間對空氣處理的要求極高，需要高度精確穩定的空氣系統。 LWM系列精密空調機組可有效避免大面積空氣處理和維護的高昂成本。

立即發送您的諮詢