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製程冷水機

FLTZ -25℃~90℃製程冷水機

FLTZ -25℃~90℃ 是一款緊湊型一體化低溫製程冷水機,採用全封閉系統。低溫可防止吸收空氣中的水分,高溫則不會使傳熱介質揮發或產生油霧。此系統可自動向循環迴路補充傳熱介質。

作為值得信賴的冷水機供應商,LNEYA 提供溫度控制精度高的冷水機。 FLTZ -25℃~90℃ 具有寬廣的溫度範圍和高達
±0.05℃的精度控制。它可快速冷卻,滿足各種製程需求,確保性能穩定可靠。

FLTZ -25 ℃ ~90℃製程冷水機的參數

FLTZ系列234681015
002W003W004W006W008W010W015W
溫度範圍5℃~90℃
溫度控制精度±0.05℃(穩態出口溫度)
10℃時的冷凍能力6千瓦8千瓦10千瓦15千瓦20千瓦25千瓦40千瓦
冷媒R410A
20℃時冷卻水流量1.5立方米/小時2立方米/小時2.5立方米/小時4立方米/小時4.5立方米/小時5.6立方米/小時9立方米/小時
內部循環液量4公升5公升6公升8公升10公升12公升20公升
膨脹水箱容積10公升10公升15升15升20公升25升35升
冷媒R410A
連接尺寸ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水連接尺寸ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷藏介質矽油、氟化液、多元醇水溶液、去離子水等(去離子水溫度需控制在10℃以上)。
過程溫度控制 透過結合自主創建的無模型自建樹演算法和級聯演算法,可以控制遠端目標溫度。

FLTZ -25℃~90℃製程冷水機的特點

溫度控制精度

採用三點取樣(被測物體的溫度、溫度控制系統的入口和出口溫度),結合無模型自建構演算法和一般反滯後級聯演算法,控制器能夠預測控制動作而不會出現較大的延遲。

溫度範圍

FLTZ-25℃~90℃製程冷水機的溫度控制範圍為-25℃至90℃,符合大多數製程的溫度控制要求。此冷水機無需在製程中更換其他冷水機,從而提高了生產效率。

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通訊功能

製程冷卻器的通訊協定包括 RS485 介面 Modbus RTU 協定和乙太網路介面 TCP/IP 協議,可與您的設備通訊或建置系統。

變頻節能

該冷水機配備了變頻泵。您可以在操作面板上設定循環流體的輸出壓力和流量。在各種管路條件下,變頻幫浦無需調節旁通管即可自動控制設定的輸出壓力和流量,進而降低幫浦的能耗,實現節能。

彩色觸控螢幕

FLTZ -25℃~90℃製程冷水機採用LNEYA客製化彩色觸控屏,可在螢幕上顯示各種即時訊息,如進出流體的溫度和壓力、各組件的電流和電壓、水箱液位等。

壓縮加熱


當溫度在 40℃ 以內時,FLTZ -25℃~90℃ 製程冷水機可以利用壓縮機產生的熱空氣加熱,而無需使用加熱器,這既能實現節能,又能回收壓縮機產生的熱量。

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無洩漏

FLTZ -25℃~90℃工業製程冷水機的整個系統是一個全封閉循環系統,配備了各種知名品牌的磁力驅動泵,可以有效避免洩漏風險。

品質管制檢驗

每台製程冷卻器都經過 100% 氦氣檢驗和安全檢驗,並通過 24 小時連續運行測試,以確保您收到的設備安全可靠

了解更多

FLTZ -25℃~90℃製程冷水機的應用

FLTZ -25℃~90℃製程冷卻器廣泛應用於半導體產業,輔助前端和後端製程。

晶圓冷卻和加熱:在光刻和蝕刻製程中,必須確保晶圓保持在特定的溫度範圍內。 FLTZ -25℃~90℃製程冷卻器可提供穩定的低溫或高溫環境,以確保材料的穩定性,並避免溫度變化對製程的影響。
光刻製程中的精確溫度控制:在光刻製程中,曝光系統的溫度控制對於光阻的固化和圖案轉移品質至關重要。 FLTZ -25℃~90℃半導體冷卻器確保曝光系統保持穩定的溫度。
封裝過程中的溫度控制:在封裝過程中,材料的膨脹和收縮會受到溫度變化的影響。 FLTZ -25℃~90℃工業製程冷卻器可精確調節溫度,避免封裝過程中因溫差引起的應力、裂痕等問題,以確保封裝品質。
環境適應性測試某些半導體元件需要在極端溫度下工作。 FLTZ -25℃~90℃ 冰水機可提供寬廣的溫度控制範圍(-25℃ 至 90℃),用於測試元件在不同溫度條件下的性能,並確保產品的環境適應性。

您可以信賴LNEYA

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全球服務

服務客戶超過3萬名。
產品出口到20多個國家。

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認證專利

已獲得CE認證、SGS認證、ISO認證。

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售後服務

提供全面的技術培訓,
並提供全天候服務。

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專業團隊

公司成立於2010年,擁有16年的產業經驗。
員工20%為技術人員。

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品質管制

外觀檢查。
性能測試。
電氣安全測試。

常問問題

製程冷水機是一種用於去除工業或實驗室製程中熱量的冷卻系統。它透過閉環循環使溫度可控的冷卻液循環。冷卻液吸收製程設備的熱量並將其送回冷卻器進行冷卻。 FLTZ系列製程冷卻器可在-25°C至90°C的寬廣溫度範圍內保持穩定的溫度控制,確保運作可靠並獲得精確的結果。

製程冷水機廣泛應用於半導體製造、製藥、化學、雷射系統和測試實驗室等領域。 FLTZ製程冷卻器尤其適用於半導體應用,例如晶圓冷卻、微影溫度控制、封裝和環境測試。

LNEYA製程冷水機可客製化為風冷式或水冷式。
 
風冷式機組安裝更便捷,適用於無塵實驗室環境。

水冷式冷水機節省空間,更適合工廠或高溫環境。

是的。 LNEYA 提供客製化的製程冷水機組解決方案,包括防爆設計、-150°C 至 350°C 的特殊溫度範圍、特定的流量或壓力設定以及不同的介面尺寸。每台機組均可根據您的冷卻能力、空間和行業標準進行客製化。

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